Китайские учёные добрались до прорыва в технологии изготовления полупроводниковых пластин

Китайские учёные добрались до прорыва в технологии изготовления полупроводниковых пластин

Китайские исследователи разработали методику для промышленного изготовления полупроводниковых пластин из двумерных материалов, сообщает гонконгская газета South China Morning Post (SCMP). «Группа под руководством Ван Цзиньланя из Юго-Восточного университета в Нанкине совместно с Ван Синьжанем и Ли Таотао из Нанкинского университета объявила о важном прорыве», — говорится в публикации.

По информации SCMP, учёные представили новый способ выращивания кристаллов и сумели получить монокристаллическую пластину MoS2 (дисульфид молибдена) диаметром 15 сантиметров. В процессе роста кристалла команда вводила кислород в определённый момент химической реакции, что ускоряло кристаллизацию, улучшало электронные характеристики материала и снижало вероятность появления дефектов.

Газета подчёркивает, что разработка открывает возможности для серийного производства полупроводниковых пластин на основе двумерных материалов. По данным SCMP, китайские исследовательские коллективы внесли заметный вклад в изучение различных двумерных полупроводников, которые потенциально могут заменить кремний.

Оставить комментарий